A Wigner Fizikai Kutatóközpont anyagtudományi műhelyeit tömörítő Fejlett Anyagok Laboratórium (ADMIL) keretében
működő Elektrolitikus Nanoszerkezetek laboratórium (ENL) nyitott más kutatóhelyekkel együttműködésben közös
tudományos kutatás folytatására csakúgy, mint külső megrendelők részére nyújtott mérési szolgáltatások elvégzésére.
Az alábbi rövid ismertető az ilyen, összefoglaló néven külső kutatásnak nevezett tevékenység alapelveit foglalja össze.
Noha az alábbi irányelvekben igyekeztünk a lehetőségeket pontosan összefoglalni, javasoljuk, hogy minden kezdeményezés
egyéni egyeztetés alapján kerüljön megvalósításra.
1. Közös tudományos kutatás intézeten belüli partnerekkel vagy más tudományos intézetekkel
A tudományos együttműködésben végzett kutatás a kölcsönös előnyök alapján történik. Térítési díjat
műszerhasználatért nem számítunk fel, de elvárjuk, hogy az együttműködő partner a kutatás súlyának megfelelő részarányban
vegyen részt az eszközpark megteremtésében (ha ez igényel valamilyen befektetést), valamint a fogyóeszközök pótlásában.
Az elért eredmények közzététele közös közlemény formájában történik, ahol az ENL kutatásban részt vevő tagjai mind
igényt tarthatnak társszerzőségre.
2. Külső kutatás megrendelés vagy bérmunka alapján
Az ENL nyitott laboratórium, amely megrendelés alapján is végez kutatási tevékenységet vagy mérési szolgáltatást. Mérési szolgálatások
esetén az eszközhasználat napi térítési költsége a berendezés beszerzési árának 0,9-1,5 %-a között változhat (hosszabb
igénybevételi időszak során az egy napra jutó összeg kisebb). Az eszközhasználati költségen túl a díjszabás kiterjed
a felhasznált fogyóeszközökre és a rezsiköltségre is. A rezsiköltség egyedi megállapodás tárgyát képezi aszerint,
hogy a megrendelő a közvetlen mérési adatokon túlmenően milyen kiértékelést vagy szakirodalmi összehasonlítást igényel, de
legfeljebb az összes anyag- és eszközköltség 30%-áig terjedhet.
A fentieknek megfelelő teljes költségen térített szolgáltatás esetén a kapott adatok felett a megbízó rendelkezik, az
ENL dolgozóit tudományos közleménye szerzőjeként nem szükséges szerepeltetni, de ebben az esetben is meg kell nevezni
az ENL-t mint az elvégzett mérések helyszínét.
Az alábbi táblázat a laboratóriumban rendelkezésre álló eszközök rövid összefoglalóját tartalmazza:
Elektrokémiai mérőműszerek
Potenciosztát: IviumStat
(4 V, 10 nA - 5 A, impedancia mérési lehetőséggel, tetszőleges mérési program
szerkesztésének lehetőségével potenciál vagy áram beállítás és lineáris pástázás mellett)
Potenciosztát: Ivium CompactStat
(4 V, 100 nA - 30 mA, tetszőleges mérési program
szerkesztésének lehetőségével potenciál vagy áram beállítás és lineáris pástázás mellett)
Potenciosztát: Elektroflex EF453 (2 db)
(2 V, 100 nA - 2 A, potenciál vagy áram beállítás és
lineáris pástázás a potenciállal, impulzusos vezérlési lehetőségek)
Elektrokémiai kvarckristály-mikromérleg: SRS-200
(néhány ng/cm2 felbontás, Ivium potenciosztátokhoz
kapcsolva használható)
|
Elektrokémiai kísérletekhez is használható áram- és feszültségforrások
Itech 6823 (4 db)
(72 V, 1,5 A; nagyobb áramot igénylő fémlválasztásokhoz vagy nanopórusos sablonok
elektrokémiai oxidáció útján történő elkészítéséhez)
EL301R (2db)
(30 V, 1 A; nagyobb áramot igénylő fémlválasztásokhoz vagy nanopórusos sablonok
elektrokémiai oxidáció útján történő elkészítéséhez)
EA-PS 2042-10 B
(30 V, 1 A; nagyobb áramot igénylő fémlválasztásokhoz vagy nanopórusos sablonok
elektrokémiai oxidáció útján történő elkészítéséhez)
|
Elektrokémiai kísérletek egyéb járulékos berendezései
Zeiss Axio Imager anyagvizsgáló mikroszkóp
(50x, 200x, 1000x nagyítás normál objektívlencsével,
500x nagyítás nagy fókusztávolságú objektívlencsével, digitális képrögzítési lehetőség)
Folyadéktermosztátok és Julabo kriosztát
(kriosztát: -20 'C-ig, egyéb folyadéktermosztátok: +80'C-ig)
|
Roncsolásmentes összetétel-meghatározás és morfológiai vizsgálat
TESCAN MIRA3 pásztázó elektronmikroszkóp
(összetétel roncsolásmentes meghatározása, felületi képalkotás nanoskálán)
|
Mágneses ellenállás mérése
Egyedi építésű mérőállomás
(12-300 K közötti mérés, 0,02 % pontosság)
|
|