Magashőmérsékletű Labor

• ÚJDONSÁG Nagyfrekvenciás indukciós generátor hidegtégelyes, grafit- vagy kerámiatégelyes olvasztáshoz és szintereléshez
  • Típus: Stanelco STX25-DF1
  • Működési frekvencia: 400 kHz és 1 MHz
  • Kimenő teljesítmény: 25 kW

• ÚJDONSÁG Carbolite magas hőmérsékletű vízszintes csőkemence (CTF/18/300)
  • 1800°C maximum hőmérséklet
  • Folyamatos hőntartás esetén maximum 1700°C hőkezelési hőmérséklet
  • Molibdén-diszilicid fűtőelemek 6000 W teljesítménnyel
  • Belső hőmérséklet mérése Pt20%Rh / Pt40%Rh termoelemmel
  • Programozható hőmérsékletszabályzó nyolc szakasszal
  • Túlhevülés elleni védőkapcsoló
  • Védőburkolat és tartóállvány az 1200 mm hosszú izzítócsövekhez
  • Izzítócsövek kvarcból vagy kerámiából (1000°C felett csak kerámia használható)
  • 300 mm fűtött hossz (200 mm homogén zónával) 90 mm átmérővel
  • Vákuumozható 10-3 bar-ig
  • Módosítható atmoszféra 5.0-ás argonnal vagy nitrogénnel
  • Kvarc, kerámia vagy üveg laboratóriumi eszközök, minta-előkészítő asztal
  • HP ProBook 430 G2 munkaállomás adatfeldolgozásra

Elektronsugaras párologtató	Nagyvákuumú hőkezelőkályha

Elektrolitikus Nanoszerkezetek Laboratórium ↑

Az Elektrolitikus Nanoszerkezetek Laboratórium számos, egyenként kis vagy közepes alegységből felépülő labor, melyben az elektrokémiai mintaelőállítás sokféle ága megvalósítható. Rendelkezésre áll egy kriosztatikus munkaállomás nanopórusos alumínium-oxid sablonok elkészítéséhez (egy recirkulációs folyadékkriosztát + négy tápegység elektrolitikus maráshoz). Elektrokémiai fémleválasztáshoz 5 különféle gyártmányú potenciosztáttal felszerelt munkaállomásaink vannak, melyek közül az egyikhez egy SRS-200 típusú in situ tömegváltozás mérésére alkalmas elektrokémiai kvarckristály-mikromérleg is kapcsolódik. A berendezésegyüttes homogén fémötvözetek, nanokristályos fémek, multiréteges fémes minták, továbbá sablonok használata esetén nanohuzalok elektrokémia elválasztására használható. A laborban rendelkezésre áll SEM-EDS készülék az előállított szerkezetek kémiai összetételének vizsgálatára, valamint egy Denton Vacuum Desk V típusú vákuumporlasztó készülék. Az utóbbi készülék fémrétegek porlasztására alkalmas 75 mm-es céltárgy méretig. A berendezéshez háromféle anyagú porlasztó target használható (ezüst, arany és platina).  A porlasztó saját érintőképernyős felülettel rendelkezik, így külső vezérlőegység nélkül használható.

Kolloidkémia Laboratórium ↑

A kolloidkémiai labor csökkentett portartalmú légtérrel és a szervetlen preparatív munkához szükséges eszközökkel van ellátva. Főbb egységek: Teflonbetétes feltáró bombák (23 ml - 250 ml) savas roncsoláshoz és hidrotermális szintézishez 250 °C-ig. Gyors dializáló egységek, centrifuga (max 8500 rpm, 6x100 ml) szeparáláshoz, sűrűséggradiens-centrifugáláshoz. Elektrokémián alapuló méréstechnikák (pH, redox potenciál, F-ion, nitrát ion, ionerősség, oldott oxigén kis mintatérfogatban is). Keverő golyósmalmok.

Atomabszorpciós spektrométer ↑

A közelmúltban a spektrokémiai laboratóriumban egy új Analytik Jena ContrAA700-as (Jena, Németország) típusú, nagyfelbontású atomabszorpciós spektrométert (AAS) helyeztünk üzembe. A készülék világviszonylatban első vonalbeli, alkalmas szilárd- és oldatminták összetételének (szervetlen komponensek) közvetlen, egyidejű elemezésére. A spektrométer olyan új mérési elveket és technikai újdonságokat (pl. folytonos színképű fényforrás, nagy felbontású optika, nagy érzékenységű detektor) valósít meg, melyek nagy rugalmasságot és széleskörű felhasználhatóságot biztosítanak. Ez kifejezésre jut speciális, erősen hőálló/kémiailag ellenálló anyagok összetételének elemzésekor (pl. V, Ni meghatározása tőzálló kristályokban), mikrogrammnyi, vagy kisebb mintamennyiségekből. A készülék főbb alkalmazási területei: az intézetünkben kifejlesztett új, mesterséges anyagrendszerek, illetve különböző környezeti mátrixok összetételének vizsgálata.

Reaktív kisülési plazmák és kémiai gőzleválasztás ↑

Elektromos gázkisülésű plazma alacsony nyomású He gázban

A mikrohullámú gázkisüléses plazmareaktorban lehetőség van oxid nanostruktúrák növesztésére atmoszférikus nyomású utókisülésekben, illetve növekedés közben a gázkisülésben lezajló atomi folyamatok monitorozására. A rádiofrekvenciás alacsony nyomású és atmoszférikus kisülésben vezető és szigetelő felületek funkcionalizálását végezzük plazma környezetben. A kémiai gőzleválasztó berendezésben adalékolt gyémánt vékonyrétegeket lehet növeszteni, illetve hidrogénplazma-kezelést végezni.

NIK Nehézion-kaszkádimplanter ↑

A NIK hazai építésű kaszkád rendszerű iongyorsító. A berendezés képes hidrogéntől bizmutig, egyszeres és többszörös töltésű ionokat gyorsítani 100-450 kV terminálfeszültséggel. Felhasználási területe az ionbesugárzás. A besugárzás laterális homogenitását elektrosztatikus sepertető rendszer biztosítja. A sepertetett terület 25x50 mm2, a maximális ionáram 1-100 µA. A besugárzás alatt a minta hőmérséklete szobahőmérséklet és 600 C között szabályozható. A minta hőmérsékletét infravörös távhőmérő ellenőrzi. A mintában a besugárzás alatt bekövetkező változások egy beépített W88 típusú, J.A. Woollam Co. gyártmányú spektroszkópiai ellipszométerrel vizsgálhatók.